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3月11日:65纳米以下半导体特色工艺技术概述

创建时间:  2021年03月09日 16:26  高珊    浏览次数:


报告题目(中文):65纳米以下半导体特色工艺技术概述

报告内容简介:概述65纳米以下半导体特色工艺技术,例如存储器,CMOS图像传感器等。

报告人姓名:陈昊瑜

报告人简介(中文):1998年9月至2002年7月,bat365官网登录入口 材料物理 本科 2002年9月至2005年4月,bat365官网登录入口 微电子与固体电子学 硕士研究生 2005年6月至2012年6月,上海华虹NEC电子有限公司 研发部 工程师/主任 2015年6月~至今,上海华力微电子有限公司 研发一部 部长 2016年 上海市浦东新区科学技术奖 (55纳米CMOS图像传感器工艺开发)一等奖 2019年 上海市优秀发明(55纳米SONOS超低功耗嵌入式闪存技术)银奖 2015年 上海市劳动模范 2016年 上海市优秀共产党员

报告人单位(中文):上海华力集成电路制造有限公司

报告时间:2021-03-11 13:05

报告地点:A楼323教室

主办单位:上海大学bat365官网登录入口

联系人:王林军





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